Exquis T4 Pro 全譜直讀光譜儀
Exquis T4 Pro全譜直讀光譜儀以其卓越的性能、穩定的品質、智能化的設計以及極高的性價比，成為了金屬制造及加工企業的理想選擇。采用了光室密封循環充氬技術，是一款高質量、緊湊型且價格合理的儀器，非常適合對各種金屬樣品（如鐵基、鋁基或銅基金屬）中的元素含量進行常規分析，是金屬制造及加工企業理想的選擇。
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技術參數
| 光學結構 | 帕型-龍格 羅蘭圓全譜充氬型光學系統 |
| 電極 分析間隙 氬氣流量 | 鎢材噴射電極 4mm 激發流量約3.5L/min，待機流量約0.1L/min |
| 光源類型 | 數字光源，高能預燃技術（HEPS） 100-1000HZ |
| 探測器 其他功能 | 高性能CMOS陣列（4096像素） 光室溫度，軟件自動控制壓力，通訊監測 |
| 可檢測基 檢測時間體 | Fe，Al，Cu，Zn，Ni，Mg，Ti，Pb，Sn 依據樣品類型而定，一般20S左右 |
| 工作電源 | AC220V 50/60Hz |
| 主機尺寸 | 530*660*350mm 約47Kg |
光學系統
激發臺
激發光源
數據采集系統 
電源功耗
尺寸與重量儀器特點
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| 采用了先進的光室密封循環充氬技術，有效隔絕外界干擾，確保分析過程在純凈、穩定的環境中進行。 | ||
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配備低噪聲的4096像素CMOS檢測器，實現了對Fe、Al、Cu、Zn、Ni、Mg、Ti、Pb、Sn等金屬基體及非金屬 元素（N,C,S,P,B,As）的全譜分析。 其卓越的紫外響應靈敏度，無需額外鍍膜即可直接分析非金屬元素。 | ||
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擁有專利的全數字高穩定性激發光源，頻率最高可達1000Hz，能夠根據不同材質自動匹配最佳激發條件，確保 每次分析都能獲得最優結果。 | ||
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| 采用全新的整體恒溫屏蔽技術，將溫度控制精度提升至±0.1℃，確保光學系統在穩定、均勻的溫度環境中工作。 | ||
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| 創新的智能全覆蓋加熱及保溫技術使得冷機啟動時間大幅縮短至30分鐘，提高了整體運營效率。 | ||
 曲線智能跳轉技術 | ||
創新的曲線智能跳轉技術使得Exquis T4 Pro能夠根據樣品的分析值在后臺智能選擇最佳分析譜線，進一步提高了分析結果的準確性和精度，分析結果自動判斷產品牌號。 |
光室密封循環充氬技術
